前世，euv光刻机的联合研发成功几乎逼近当时人类物理学、材料学以及精密制造的极限，除了光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，还需要真空环境，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高，别说asml或nikon，就算是科技实力世界第一的美国，以一国之力，完全自主制造一台euv光刻机，比登天还难。
《我的一九八五第一三八二章秘而不宣