八五年，机电部如今的工部45所研制成功分步光刻机样机，中院沪海光学精密机械研究所研制的“扫描式投影光刻机“通过鉴定，采用的都是436纳米线光源，制程工艺达到15，认为均达到生产的4800水平，为国内大规模集成电路专用设备填补了一项空白，这是国内第一台分步投影式光刻机，在这
我的一九八五第九三九章光刻机的现状正在手打中，请稍等片刻，
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八五年，机电部如今的工部45所研制成功分步光刻机样机，中院沪海光学精密机械研究所研制的“扫描式投影光刻机“通过鉴定，采用的都是436纳米线光源，制程工艺达到15，认为均达到生产的4800水平，为国内大规模集成电路专用设备填补了一项空白，这是国内第一台分步投影式光刻机，在这
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